"Книга 'CVD не металлов' является практическим справочником, написанным ведущими экспертами в области химического осаждения паром (CVD) не металлов. Эта технология имеет ключевое значение в полупроводниковой электронике, отделке и защите от коррозии. Введение рассматривает основы, необходимые для любого процесса CVD. В последующих главах обсуждаются требования к прекурсорам, с акцентом на химии материалов, распространенные структуры реагентов и подложек, а также контроль реакции для широкого диапазона составов, включая сверхпроводящие, проводящие, полупроводниковые, изоляционные и структурные материалы. Оцениваются технологические вопросы, такие как геометрия реактора и параметры эксплуатации, и сравнивается жизнеспособность метода как с технической, так и с экономической точек зрения с другими техниками приготовления тонких пленок. Соответствующие материалы и технические данные представлены в таблицах на протяжении всей книги. Обширный глоссарий, список сокращений и аббревиатур, а также более 1400 ссылок дополняют это впечатляющее произведение. 'CVD не металлов' предлагает увлекательное сочетание базовых концепций и практических применений. Ученые-материаловеды, органометаллические химики, физики, инженеры, а также аспиранты найдут в этой книге огромную ценность."
This practical reference, written by leading scholars, presents a critical, up-to date review of Chemical Vapor Deposition (CVD: of nonmetallic materials), a principal technology in modern semiconductor technology, fine surface finishing, and expansion invitro protection. Essential precepts regarding design of any CVD form are initially introduced. Later chapters divergeupon essential needs, Centered on realistic solid materials, average arrays of reaction substances and start, besides control of reaction, for broad arrays conceivably containing Judicial qualities (such as conduction, semiconductor capacitance, air pending and structural masses). Intriguing technological issues, your reactor topographies and procedure conditions, nevertheless probable economic worthiness, countless applications revealing fresh luster, peers to other techniques during designing disperse films, are all analysed.
Электронная Книга «CVD of Nonmetals» написана автором William S. Rees, Jr. в году.
Минимальный возраст читателя: 0
Язык: Английский
ISBN: 9783527614806
Описание книги от William S. Rees, Jr.
Written by leading experts in the field, this practical reference handbook offers an up-to-date, critical survey of the chemical vapor deposition (CVD) of nonmetals, a key technology in semiconductor electronics, finishing, and corrosion protection. The basics necessary for any CVD process are discussed in the introduction. In the following chapters, precursor requirements, with an emphasis on materials chemistry, common structures of reactants and substrates, as well as reaction control are discussed for a broad range of compositions including superconducting, conducting, semiconducting, insulating and structural materials. Technological issues, such as reactor geometries and operation parameters, are assessed and the viability of the method, both technically and economically, is compared with other techniques for the preparation of thin films. Relevant materials and technical data are collected in tables throughout. An extensive glossary, list of abbreviations and acronyms, and over 1400 references round off this impressive work. The 'CVD of Nonmetals' offers a stimulating combination of basic concepts and practical applications. Materials scientists, solid-state and organometallic chemists, physicists, engineer, as well as graduate students will find this book of enomous value.
