Книга "The Chemistry of Metal CVD" описывает процесс осаждения тонких металлических покрытий высокой чистоты из органометаллических предшественников. Такие покрытия имеют различные важные коммерческие применения, например, в микроэлектронной промышленности, как катализаторы, защитные и декоративные покрытия, а также в качестве газодиффузионных барьеров. В книге подробно рассматривается CVD металлов, включая алюминий, вольфрам, золото, серебро, платину, палладий, никель, а также медь из соединений меди(I) и меди(II). Описывается синтез предшественников, процесс роста, морфология, качество и адгезия полученных пленок, а также методы, использующие лазерную, ионную и плазменную обработку. Рассматриваются текущие применения и перспективы будущих разработок. Книга содержит около 1000 ссылок и глоссарий, и является ценным источником глубокой информации для химиков, физиков, инженеров и материаловедов, работающих с процессами и технологиями металлического покрытия. Одна из рецензий на книгу гласит: "Я настоятельно рекомендую эту книгу всем, кто хочет узнать больше о химии металлического CVD".
Максимальная чистота, тонкие металлические покрытия имеют разнообразные важные коммерческие применения; например, в микроэлектронной отрасли в качестве катализаторов, как защитные и декоративные покрытия и также в барьерах для диффузии газов. Эта книга предлагает детальное, современное покрытие химии позади осаждения пара различных металлов из органоминеральных прекурсоров. В девяти главах, включая алюминий, вольфрам, золото, серебро, платину, палладий, никель и медь из соединений меди(I) и меди(II), описывается химическое осаждение металла. Обсуждаются синтез и свойства прекурзоров, рост процесса, морфология, качество и прилипание получающихся пленок, а также лазер-помогаемые, ион- помогаемые и плазменные- помогаемые методы. Слагаются применительные разработки и перспективы для будущих изменений.
Электронная Книга «The Chemistry of Metal CVD» написана автором Toivo Kodas T. в году.
Минимальный возраст читателя: 0
Язык: Английский
ISBN: 9783527615841
Описание книги от Toivo Kodas T.
High purity, thin metal coatings have a variety of important commercial applications, for example, in the microelectronics industry, as catalysts, as protective and decorative coatings as well as in gas-diffusion barriers. This book offers detailed, up- to-date coverage of the chemistry behind the vapor deposition of different metals from organometallic precursors. In nine chapters, the CVD of metals including aluminum, tungsten, gold, silver, platinum, palladium, nickel, as well as copper from copper(I) and copper(II) compounds is covered. The synthesis and properties of the precursors, the growth process, morphology, quality and adhesion of the resulting films as well as laser- assisted, ion- assisted and plasma-assisted methods are discussed. Present applications and prospects for future developments are summarized. With ca. 1000 references and a glossary, this book is a unique source of in-depth information. It is indispensable for chemists, physicists, engineers and materials scientists working with metal- coating processes and technologies. From Reviews: 'I highly recommend this book to anyone interested in learning more about the chemistry of metal CVD.' J. Am Chem. Soc.
