Это обновленное и переработанное издание классической книги по принципам плазменных разрядов и обработки материалов. Первое издание, опубликованное более десяти лет назад, было высоко оценено за полное освещение как основ плазменной физики, так и промышленной плазменной обработки, быстро став основной справочной книгой для студентов и специалистов.
Во втором издании тщательно обновлен и пересмотрен материал, чтобы отразить последние достижения в этой области и еще более прояснить изложение базовых принципов. Наряду с подробным освещением основ плазменной физики и химии, авторы применяют базовую теорию к плазменным разрядам, включая расчеты параметров плазмы и масштабирование параметров плазмы с управляющими параметрами.
Новые и расширенные темы включают: обновленные сечения рассеяния, диффузию и решения диффузии, обобщенные критерии Бома, расширенное рассмотрение катодных слоев, зонды Ленгмюра в нестационарных полях, электроотрицательные разряды, импульсные разряды, двухчастотные разряды, высокоплотные ВЧ катодные слои и распределения ионных энергий, гистерезис и неустойчивости, разряды с винтовыми электронными пучками, полые катодные разряды, ионизированное физическое осаждение из паровой фазы, дифференциальное заряжение подложки.
Новые главы о пылевой плазме и кинетической теории разрядов делают это издание еще более ценным для аспирантов и исследователей в области плазменной обработки.
This thoroughly updated second edition retains the original's clear organization and approach to provide basic coverage of both plasma theory and industrial applications. The book includes new sections on recent results in fusion devices, thermal etching processes, general surgery, dual frequency discharges along with many other areas bridging academia and industry.
#научно-популярная литература
