Книга "Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment" имеет главной целью напомнить новым инженерам в области производства кремниевых изделий о фундаментальных физических и химических принципах основных процессов передней обработки: окисления, эпитаксии, ионной имплантации и диффузии примесей. Она предоставляет важную информацию и руководство, необходимые для понимания и применения этих технологий.
“Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment” by Annie Baudrant is a comprehensive guide to the fundamental physical and chemical principles behind silicon front-end processing technologies. This book is designed to provide new engineers with a solid foundation in the key processes involved in semiconductor manufacturing, including oxidation, epitaxial growth, ion implantation, and impurity diffusion. The author’s clear and concise explanations of these processes, along with their underlying physical mechanisms, make it an ideal resource for anyone interested in learning more about the silicon technology industry.
Электронная Книга «Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment» написана автором Annie Baudrant в году.
Минимальный возраст читателя: 0
Язык: Английский
ISBN: 9781118601112
Описание книги от Annie Baudrant
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
