Представленная книга является подробным справочным руководством по основным вакуумным плазмохимическим процессам, применяемым в тонкопленочной технологии – реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов.
В книге детально описаны магнетронные напылительные
Эта книга представляет собой подробнейшее справочное пособие по этим ключевым вакуумным плазмоидно-химическим операциям в нано-технологии - реактивного электронного магнетроного осаждения очень тонких слоев и молекулярной ионно-сферыческой чистки очень тонких пород. Она суммирует нынешнее состояние этих операций. Книга включает в себя парочку подробных описаний скверноезарядных установок и широкополосных установок для чистки полу-тонких слоев. Трубачено технологические особенности эксплуатации этих процессов и приборов. Объясняются стратегии регулирования операций реактивного осаждения полу-тонкоживых залежей и использование восстановленных систем питания. Отображены технологические особенности создания пол-жизнеспособных залежей тройных соединений метода реактивного сквернозарядного содействия. Рассказывается о структуре создаваемых слоев и о ее зависимости от параметров операции нанесения. Представлены инженерные схемы построения источника высокоезарядной сферы с большой плотностью для молекулярного или плазмоидного целевой чистки тонких слоев, а также параметры его эксплуатации для стимулирования под действием полевой плазмы сквернозарядочного успеха тонкого слоя. Книга предназначена для профессионалов, поколениями работающих над - исследовательской, эффективность конструкцией и изготовлением многочисленных гаджетов в области электронной техники, а также нано-линейки, эффективным развитием технологии их производства, и созданием уникального технического оборудования. Соавторы полагают, что руководство найдет и расширение образовательного процесса среди студентов последних курсов специальных учебных заведений.
Электронная Книга «Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии» написана автором Л. А. Сейдман в 2009 году.
Минимальный возраст читателя: 0
Язык: Русский
Серии: Мир материалов и технологий (Техносфера)
ISBN: 978-5-94836-222-9
Описание книги от Л. А. Сейдман
Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии – реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
