В книге “Индуктивные источники высокой плотности плазмы и их технические применения” автор Л.А. Сейдмана рассматриваются тенденции развития современной технологии электронных устройств, которые заключаются в повышении степени интеграции компонентов на поверхности подложек. Это связано с увеличением размера подложек и уменьшением размеров элементов на них. Для изготовления микро- и наноматериалов использование высоковольтного индуктивно связанного плазменного разряда (ICP), который обеспечивает высокую плотность плазмы до 10^11-10^12 см^-3, минимальный разброс по энергии ионов (Δe <= 5 эВ) и низкое рабочее давление. Низкая энергетическая стоимость иона (от 30 до 80 эВ на ион) делает этот источник более эффективным и экономически выгодным. Кроме того, благодаря отсутствию накаливающихся узлов, источник ICP имеет большой ресурс работы. Книга будет полезна для специалистов в области плазменной техники, а также для студентов и аспирантов, изучающих данную область.
Электронная Книга «Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения» написана автором Л. А. Сейдман в 2018 году.
Минимальный возраст читателя: 0
Язык: Русский
ISBN: 978-5-94836-519-0
Описание книги от Л. А. Сейдман
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро- и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (10 11 –10 12 см –3 ), минимальный разброс ионов по энергиям (Δei ≤ 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10 –2 ÷ 10 –1 Па) и низкую энергетическую цену иона (30÷80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ЮР для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD. За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого – систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников. Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
