"High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology" - это книга, которая представляет собой обзор новейших материалов с высокой константой диэлектрической проницаемости для передовых полевых транзисторов. Книга охватывает как фундаментальный, так и технический аспекты высококачественных диэлектриков, обобщает последние исследовательские результаты и предлагает решения для развития этой области. В книге подробно обсуждаются преимущества использования высококачественных диэлектриков перед традиционными материалами, а также проблемы, связанные с их интеграцией в существующие технологии производства. Книга предназначена как для академической, так и для промышленной аудитории, и включает как вводные разделы для новичков в этой области, так и продвинутые разделы с прямым практическим применением для опытных исследователей и разработчиков в области материаловедения, физики и электротехники.
Электронная Книга «High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology» написана автором He Gang в году.
Минимальный возраст читателя: 0
Язык: Английский
ISBN: 9783527646371
Описание книги от He Gang
A state-of-the-art overview of high-k dielectric materials for advanced field-effect transistors, from both a fundamental and a technological viewpoint, summarizing the latest research results and development solutions. As such, the book clearly discusses the advantages of these materials over conventional materials and also addresses the issues that accompany their integration into existing production technologies. Aimed at academia and industry alike, this monograph combines introductory parts for newcomers to the field as well as advanced sections with directly applicable solutions for experienced researchers and developers in materials science, physics and electrical engineering.
