Книга "Вычислительная литография" является первым исчерпывающим источником информации по оптимизации техник улучшения разрешения в оптической литографии (RET), использующих модельно-ориентированные математические подходы. Она охватывает оптимальную оптическую близость коррекции (OPC), маскирование фазового сдвига (PSM) и инструменты RET с отклоненной осью освещения (OAI). В книге описываются различные алгоритмы оптимизации для реализации RET, основанные на OPC, PSM и OAI, а также их комбинациях. Описываются алгоритмы для когерентного и частично когерентного освещения, а также предлагаются многочисленные симуляции, иллюстрирующие эффективность алгоритмов.
Книга начинается с введения в оптические системы литографии, принципы электромагнитного поля и основы оптимизации с математической точки зрения. Кроме того, описываются математические выводы всех оптимизационных рамок. В качестве дополнения к книге предлагаются файлы программного обеспечения MATLAB® для всех методов RET, описанных в книге, что позволяет читателям запускать и исследовать коды для понимания и применения алгоритмов оптимизации, а также проектировать набор оптимальных масок литографии. Коды также могут использоваться читателями для их научно-исследовательских и разработочных работ в их академических или промышленных организациях.
Книга предназначена для преподавателей, аспирантов, исследователей, а также ученых и инженеров в промышленных организациях, занимающихся производством полупроводниковых интегральных схем, оптической литографией и RET. Вычислительная литография основана на богатой теории обратных задач, оптики, оптимизации и вычислительной обработке изображений, поэтому книга также предназначена для исследователей и практиков в этих областях.
Книга “Computational Lithography” написана Arce Gonzalo R и представляет собой сводное изложение моделей и методов оптимизации, используемых в вычислительной литографии. Оптическая литография является одной из самых сложных областей современной технологии производства интегральных схем. Полупроводниковая промышленность полагается на методы повышения разрешения (RETs) больше, чем на изменения в производственной инфраструктуре.
В книге “Computational Lithography” впервые рассматривается вычислительная оптимизация RETs в оптической литографии, в ней подробно обсуждаются оптимальные инструменты коррекции оптического приближения (OPC), маски с фазовым сдвигом (PSM) и освещение вне оси (OAI), которые используют математические подходы к оптимизации на основе моделей.
Книга начинается с введения в системы оптической литографии, принципы электромагнетизма и основы оптимизации с математической точки зрения. В ней подробно описываются различные типы алгоритмов оптимизации для реализации RETs, большинство из которых основаны на применении подходов OPC, PSM и OAI. Кроме того, книга содержит практические примеры использования методов вычислительной литографии для решения реальных задач в производстве полупроводниковых устройств.
Название: "Computational lithography", Автор: Арсе Гонзало Р. "Computational Lithography" provides global coverage of computational methods illustrated through numerous examples. Specifically, the book focuses on computational problems present in various states of optical lithography models. These techniques include optimal optical Proximity Correction, Disk Profiling Mask, Faulty-Flag Illumination and other areas requiring model-based approaches for mathematical decision making. Through this book readers will learn about various optical lithography methodologies that are enabling technology for the semiconductor manufacturing industry. This book provides information on key weaknesses and shortfalls found in traditional computational process reliability and consistency strategies and how mathematical optimization algorithms based on advanced computational methodological approaches overcoming these issues.
Электронная Книга «Computational Lithography» написана автором Arce Gonzalo R. в году.
Минимальный возраст читателя: 0
Язык: Английский
ISBN: 9780470618936
Описание книги от Arce Gonzalo R.
A Unified Summary of the Models and Optimization Methods Used in Computational Lithography Optical lithography is one of the most challenging areas of current integrated circuit manufacturing technology. The semiconductor industry is relying more on resolution enhancement techniques (RETs), since their implementation does not require significant changes in fabrication infrastructure. Computational Lithography is the first book to address the computational optimization of RETs in optical lithography, providing an in-depth discussion of optimal optical proximity correction (OPC), phase shifting mask (PSM), and off-axis illumination (OAI) RET tools that use model-based mathematical optimization approaches. The book starts with an introduction to optical lithography systems, electric magnetic field principles, and the fundamentals of optimization from a mathematical point of view. It goes on to describe in detail different types of optimization algorithms to implement RETs. Most of the algorithms developed are based on the application of the OPC, PSM, and OAI approaches and their combinations. Algorithms for coherent illumination as well as partially coherent illumination systems are described, and numerous simulations are offered to illustrate the effectiveness of the algorithms. In addition, mathematical derivations of all optimization frameworks are presented. The accompanying MATLAB® software files for all the RET methods described in the book make it easy for readers to run and investigate the codes in order to understand and apply the optimization algorithms, as well as to design a set of optimal lithography masks. The codes may also be used by readers for their research and development activities in their academic or industrial organizations. An accompanying MATLAB® software guide is also included. An accompanying MATLAB® software guide is included, and readers can download the software to use with the guide at ftp://ftp.wiley.com/public/sci_tech_med/computational_lithography. Tailored for both entry-level and experienced readers, Computational Lithography is meant for faculty, graduate students, and researchers, as well as scientists and engineers in industrial organizations whose research or career field is semiconductor IC fabrication, optical lithography, and RETs. Computational lithography draws from the rich theory of inverse problems, optics, optimization, and computational imaging; as such, the book is also directed to researchers and practitioners in these fields.
