"Catalytic Chemical Vapor Deposition" - это книга, написанная ученым и изобретателем К.К. Глейсон. В ней рассмотрены различные вопросы, связанные с каталитическим химическим осаждением пара (Cat_CVD) и его применением в различных отраслях, таких как электроника, фотоника, микроэлектроника и др. Книга охватывает широкий спектр технологий от основных принципов до многочисленных приложений и включает информацию о проектировании установки для Cat_CVD. Авторы пишут:
"В книге представлены концепции и техника наблюдения за процессами в Cat_CVD и детальное изложение физики и химии, лежащих в основе этой технологии. Авторы также рассматривают свойства органических и неорганических тонких пленок, полученных с помощью Cat_CVD.. Помимо этого, Книга анализирует вопросы синтеза растворов, используемых для нанесения пленок на субстраты, а также методы нанесения на неровные поверхности. Также рассматриваются вопросы масштабирования и оптимизации производственных линий Cat_CVD"
В целом, "Catalytic chemical vapor deposition: technology and applications" представляет собой объемный обзор современной научной литературы, который дает читателю возможность всесторонне изучить это область и понять ее основные принципы и перспективы развития.
Электронная Книга «Catalytic Chemical Vapor Deposition» написана автором Karen K. Gleason в году.
Минимальный возраст читателя: 0
Язык: Английский
ISBN: 9783527818648
Описание книги от Karen K. Gleason
The authoritative reference on catalytic chemical vapor deposition, written by the inventor of the technology. This comprehensive book covers a wide scope of Cat-CVD and related technologies from the fundamentals to the many applications, including the design of a Cat-CVD apparatus. Featuring contributions from four senior leaders in the field, including the father of catalytic chemical vapor deposition, it also introduces some of the techniques used in the observation of Cat-CVD related phenomena so that readers can understand the concepts of such techniques. Catalytic Chemical Vapor Deposition: Technology and Applications of Cat-CVD begins by reviewing the analytical tools for elucidating the chemical reactions in Cat-CVD, such as laser-induced fluorescence and deep ultra-violet absorption, and explains in detail the underlying physics and chemistry of the Cat-CVD technology. Subsequently it provides an overview of the synthesis and properties of Cat-CVD-prepared inorganic and organic thin films. The last parts of this unique book are devoted to the design and operation of Cat-CVD apparatuses and the applications. Provides coherent coverage of the fundamentals and applications of catalytic chemical vapor deposition (Cat-CVD) Assembles in one place the state of the art of this rapidly growing field, allowing new researchers to get an overview that is difficult to obtain solely from journal articles Presents comparisons of different Cat-CVD methods which are usually not found in research papers Bridges academic and industrial research, showing how CVD can be scaled up from the lab to large-scale industrial utilization in the high-tech industry. Catalytic Chemical Vapor Deposition: Technology and Applications is an excellent one-stop resource for researchers and engineers working on or entering the field of Cat-CVD, Hot-Wire CVD, iCVD, and related technologies.
