Книга "Атомный слойное осаждение" ("Atomic Layer Deposition") является всесторонним обзором технологии атомного слойного осаждения, которая с момента первого издания в 2008 году стала мощным и, порой, предпочитаемым способом осаждения пленок. В новом издании этого революционного монографа впервые представлено полное практическое руководство по теме атомного слойного осаждения. Книга охватывает применение атомного слойного осаждения в микроэлектронике (МЭМС) и нанотехнологии, множество важных новых и развивающихся областей применения, термические процессы для осаждения нанометровых пленок полупроводников, оксидов, металлов и нитридов методом атомного слойного осаждения, а также формирование органических и гибридных материалов.
Издание, которое существовало с момента выпуска первого издания в 2005 году, атомное напыление (ALD), стало мощным и одним из предпочтительных методов нанесения покрытий. Новая версия этой ведущей монографии является первым текстом, рассматривающим предмет ALD с практической точки зрения. В ней представлен обзор применения ALD в микроэлектронике (МЭМС) и нанотехнологии, а также многие важные новые и строящиеся приложения, термические процессы для популярного роста нанометровых пленок полупроводников, оксидов, металлов и нитридов, и формирование органических и гибридных материалов.
Электронная Книга «Atomic Layer Deposition» написана автором Marja-Leena Kääriäinen в году.
Минимальный возраст читателя: 0
Язык: Английский
ISBN: 9781118747421
Описание книги от Marja-Leena Kääriäinen
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.
