Книга "Элионная технология в микро- и наноиндустрии. Неразрушающие методы контроля процессов осаждения и травления наноразмерных пленочных гетерокомпозиций" является учебным пособием, которое рассматривает методы контроля технологических процессов нанесения и травления наноразмерных пленочных гетерокомпозиций при использовании ионно-плазменного воздействия на материалы. В книге анализируются как традиционные, так и специфические методы контроля процессов ионно-плазменной обработки материалов электронной техники, связанные с применением возникающих факторов при взаимодействии ускоренных ионов с твердым телом. Особое внимание уделено использованию возникающего ионно-индуцированного тока в многослойных наноразмерных гетероструктурах и вторичной ионно-электронной эмиссии при ионном воздействии на материалы. Книга предназначена для специалистов в области микро- и наноиндустрии, а также для студентов и аспирантов, изучающих соответствующие дисциплины.
В учебном пособии освещены неразрушающие способы контроля технологических операций осаждения наноструктурированных гетеросочетаний слоев с использованием воздействия ионной плазмы. Проанализирован подход к контролю гальванического воздействия при обработке материалов электронного оборудования, а также разработан специальный подход, связанный с применением новых факторов взаимодействия ускоренных ионов вещества с твердыми средами. Значительное внимание уделяется конструированию ионно индуцированных токовых цепей в мультислоенных наногетероструктурах, а также явлениям вторичной ионно электронной эмиссии под воздействием ионного воздействия на вещество.
Электронная Книга «Элионная технология в микро- и наноиндустрии. Неразрушающие методы контроля процессов осаждения и травления наноразмерных пленочных гетерокомпозиций» написана автором Геннадий Кузнецов в 2012 году.
Минимальный возраст читателя: 0
Язык: Русский
Описание книги от Геннадий Кузнецов
В учебном пособии рассматриваются неразрушающие методы контроля технологических процессов нанесения и травления наноразмерных пленочных гетерокомпозиций при использовании ионно-плазменного воздействия на материалы. Анализируются как традиционные способы контроля процессов ионно-плазменной обработки материалов электронной техники, так и специфические, связанные с применением возникающих факторов при взаимодействии ускоренных ионов с твердым телом. Особое внимание уделено использованию возникающего ионно-индуцированного тока в многослойных наноразмерных гетероструктурах и вторичной ионно-электронной эмиссии при ионном воздействии на материалы.