Crystal Growth Technology (Tsuguo Fukuda).

Данная книга посвящена технологиям создания кристаллов, их обработки и производства эпитаксиальных слоев, и является первой книгой, посвященной промышленным и научным аспектам производства кристаллов и слоев. В книге рассмотрены основные промышленные кристаллы, такие как кремний, галлиевый арсенид, галлиевый фосфид, индий фосфид, кадмий теллурид, сапфир, оксиды и галогениды, сцинтилляторы и кристаллы для оптических, пьезоэлектрических и микроволновых приложений и многие другие. В книге содержится 29 статей от ведущих технологов кристаллов, в которых рассматриваются следующие темы: * Общие аспекты технологии роста кристаллов * Кремний * Соединительные полупроводники * Оксиды и галогениды * Обработка кристаллов * Эпитаксия и депозиция слоев. В книге обсуждаются научные и технологические проблемы производства и обработки промышленных кристаллов ведущими экспертами, большинство из которых работают в основных отраслях производства кристаллов и центрах их роста. Кроме того, книга будет полезна для пользователей кристаллов, преподавателей и аспирантов в области материаловедения, электронных и других функциональных материалов, химического и металлургического инжиниринга, микро- и оптоэлектроники, включая нанотехнологии, механической