Книга "Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами" представляет собой курс лекций о математических моделях фотолитографии и электронной литографии, используемых для создания структур с нанометровыми размерами. В книге описываются модели различных процессов фотолитографии, включая формирование изображения в фоторезисте, экспонирование и травление фоторезиста, а также показываются ограничения, с которыми сталкиваются процессы фотолитографии. Кроме того, приводится теория электронной эмиссии, которая используется для моделирования формирования электронного пучка, и описывается эффект близости, который ограничивает точность формирования изображения при электронной литографии, а также способы коррекции этого эффекта. Книга предназначена для студентов магистратуры по направлению "Электроника и наноэлектроника".
Книга "Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур" является курсом лекций, который подробно описывает математические модели, используемые в фотолитографии и электронной литографии для создания субмикронных и нанометровых структур. В ней рассматриваются различные аспекты фотолитографических процессов, такие как формирование изображения в фоторезисте, экспонирование и травление фоторезиста. Также приводятся ограничения, которые оказывают влияние на процесс фотолитографии. Книга содержит теорию электронной эмиссии, которая используется для моделирования формирования электронного пучка, а также описывает эффект близости, который влияет на точность формирования изображения при электронной литографии, и приводит методы коррекции этого эффекта. Она предназначена для студентов, изучающих направление 210100 "Электроника и наноэлектроника" в магистратуре.
#учебники и пособия для вузов
#высокие технологии
