Книга "Fundamentals of Electrochemical deposition" от автора Mordechай Schlesinger (Fundamentals of Chemical Depositing, изд-во John Wiley & Sons / Interscience, 1968) представляет собой авторитетное введение в одно из наиболее быстро развиваюшихся направлений прикладных знаний современности. В 1995 году вышла 2-е издание, охватывающее ряд современных методов и технологий, включая, например, электрохимическое осаждение металлов, электролизное осаждение, методы in situ и многое другое. Авторы располагают большим опытом в индустрии и академических кругах и создали всеобъемлющее издание для студентов, инженеров и исследователей, интересующихся всеми связанными областями науки. Книга состоит из 7 глав, каждая из которых содержит материал о соответствующих методах осаждения, за исключением главы 6, посвященной структуре и свойствам осадков. Главные темы включают механизм электроосаждения, кинетику и механизмы, образование и рост тонкопленок, интерфазное взаимодействие металл/раствор, характеристики in situ, методы и механизмы сварки, а также основные тенденции и достижения в области напыления новых материалов. Учебник отлично структурирован, хорошо организован и легко читается, и рекомендован для всех, кто интересуется знаниями в области изучения или практического применения разнообразных технологий, связанных с осаждением тонких пленок. Издание представляет значительный интерес для тех, кто работает в компьютерной индустрии, автомобильной промышленности, медицине, энергетике. Книга - отличное учебное пособие и отличный ресурс. Она лаконичная, структурно целостная и легкая для чтения, она рекомендуется студентам, инженерам и исследователям в любых смежных областях.
Эта книга - отличный учебник и справочный материал... она сжатая, связно структурирована и легко читается... очень рекомендуется для студентов, инженеров и исследователей во всех связанных областях". - Коррозия первого издания "Оснований Электрохимического осаждения" От компьютерного оборудования до автомобилей, медицинской диагностики до аэрокосмической области, электрохимическое осаждение играет важнейшую роль в множестве ключевых областях. "Основы Электрохимического Осаждения", второе издание - это всеобъемлющее введение в одно из самых захватывающих и быстро развивающихся областей практических знаний. Настоящее руководство является самым авторитетным введением в это поле, представляет детальное обозрение всего диапазона процессов и технологий электрохимическийх осаждений, включая: ядерной секции пленки также дополнены главой, посвященной новым применениям электрохимического осаждении в , и медицине В новом издании обновлены предыдущие издания с учетом новых достижений в науке и ее приложениями, добавлены главы о инновационных электрохимических осаждениях в технологии полупроводников, магнетизме и микроэлектронике, и медицинскую аппаратуру. Добавленные м подтемы включают такое как энергия связи, наноккластеры, атомную силу и сканирующую туннельную микроскопию. Примеры проблем в конце секций и другие особенности разъяснения и улучшения вашего понимания материала. Написанный командой авторов с богатством опыта в промышленности и академической области, эта справочная и информационная книга предоставляет хорошо обоснованное введение в область как для студентов так и служит для профессиональных химиков, инженеров и техникумов возможностью расширить и усовершенствовать ваши навыки в использовании этой технологии.
Эта книга представляет собой отличного учителя и ресурс среди всех других книг, посвященных этой теме. Эта книга одновременно компактна, последовательна структурирована и легка для чтения. Мы рекомендуем эту книгу как студентам, инженерам и теоретикам для всех связанных областей". - Коррозия в первой редакции "Fundamentals of Electrochemical deposition". В компьютерной техники до пути космических аппаратов, в медицинской диагностике до космической промышленности, электрохимический метод является значимой структурной основой для многих областей. "Fundamentals" второго издания является полноправным введением к интенсивному и быстро развивающемускомуся направлению. Этот замечательный учебник енциклопедической охватил полное количество электрохимических процессов и технологий, включая: - Метальное чистое объединение; - Комплектовка переноса через чистое объединение путем; - Формирование равновесного потенциала злокачественного расстройства (электрода); - Агронгста и вытягивание лродиких слоев; - Кинетикс и механизм опрыскивания электроосаждением; - Прркис процесс покрытий; - Характеристика процессов осадцивания в целоз; - Структура и свйства отложений; - Слоистые и составные лрдые слои; - Междиффузия в лродком слое; - Автоматизации в кремниевой промышленности и области медицины. Новое нарастание внесло дополнение к прежней версии, разработанное чтобы быть в ногу с новшеством наук и их механизмом, вместе с новыми главами по инновационным механизмам электрохимического отложения в технологии кремниевых элементов, магнетизма и микроэлектроники, и медицинского оборудования. Другие темы были также описаны, включенные в сильное ориентирование, такое, как сопряженная энергия, населенные кластеры, атомная сила и сканирующая туннельно-микроскопическая,с целью улучшения всеобьема материала. Проблемно обозначенное решение в конце глав и другие особенности освобождают и улучшают понимание материала. Написанный множеством авторов с обширным опытом опыта как в производственной сфере так и в университетских кругах, данная подсказка и текст предоставляет хорошее начало к переходу в этой области для студентов, и также хранят средство чтобы расширить и усовершенствовать навыки этой технологии. В настоящее время эта книга недоступна для покупки online.
Электронная Книга «Fundamentals of Electrochemical Deposition» написана автором Mordechay Schlesinger в году.
Минимальный возраст читателя: 0
Язык: Английский
ISBN: 9780470009390
Описание книги от Mordechay Schlesinger
Excellent teaching and resource material . . . it is concise, coherently structured, and easy to read . . . highly recommended for students, engineers, and researchers in all related fields." -Corrosion on the First Edition of Fundamentals of Electrochemical Deposition From computer hardware to automobiles, medical diagnostics to aerospace, electrochemical deposition plays a crucial role in an array of key industries. Fundamentals of Electrochemical Deposition, Second Edition is a comprehensive introduction to one of today's most exciting and rapidly evolving fields of practical knowledge. The most authoritative introduction to the field so far, the book presents detailed coverage of the full range of electrochemical deposition processes and technologies, including: * Metal-solution interphase * Charge transfer across an interphase * Formation of an equilibrium electrode potential * Nucleation and growth of thin films * Kinetics and mechanisms of electrodeposition * Electroless deposition * In situ characterization of deposition processes * Structure and properties of deposits * Multilayered and composite thin films * Interdiffusion in thin film * Applications in the semiconductor industry and the field of medicine This new edition updates the prior edition to address the new developments in the science and its applications, with new chapters on innovative applications of electrochemical deposition in semiconductor technology, magnetism and microelectronics, and medical instrumentation. Added coverage includes such topics as binding energy, nanoclusters, atomic force, and scanning tunneling microscopy.Example problems at the end of chapters and other features clarify and improve understanding of the material. Written by an author team with extensive experience in both industry and academe, this reference and text provides a well-rounded introduction to the field for students, as well as a means for professional chemists, engineers, and technicians to expand and sharpen their skills in using the technology.
