Это обновленное и переработанное издание классической книги по принципам плазменных разрядов и обработки материалов. Первое издание, опубликованное более десяти лет назад, было высоко оценено за полное освещение как основ плазменной физики, так и промышленной плазменной обработки, быстро став основной справочной книгой для студентов и специалистов.
Во втором издании тщательно обновлен и пересмотрен материал, чтобы отразить последние достижения в этой области и еще более прояснить изложение базовых принципов. Наряду с подробным освещением основ плазменной физики и химии, авторы применяют базовую теорию к плазменным разрядам, включая расчеты параметров плазмы и масштабирование параметров плазмы с управляющими параметрами.
Новые и расширенные темы включают: обновленные сечения рассеяния, диффузию и решения диффузии, обобщенные критерии Бома, расширенное рассмотрение катодных слоев, зонды Ленгмюра в нестационарных полях, электроотрицательные разряды, импульсные разряды, двухчастотные разряды, высокоплотные ВЧ катодные слои и распределения ионных энергий, гистерезис и неустойчивости, разряды с винтовыми электронными пучками, полые катодные разряды, ионизированное физическое осаждение из паровой фазы, дифференциальное заряжение подложки.
Новые главы о пылевой плазме и кинетической теории разрядов делают это издание еще более ценным для аспирантов и исследователей в области плазменной обработки.
This thoroughly updated second edition retains the original's clear organization and approach to provide basic coverage of both plasma theory and industrial applications. The book includes new sections on recent results in fusion devices, thermal etching processes, general surgery, dual frequency discharges along with many other areas bridging academia and industry.
Электронная Книга «Principles of Plasma Discharges and Materials Processing» написана автором Michael Lieberman A. в году.
Минимальный возраст читателя: 0
Язык: Английский
ISBN: 9780471724247
Описание книги от Michael Lieberman A.
A Thorough Update of the Industry Classic on Principles of Plasma Processing The first edition of Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, published over a decade ago, was lauded for its complete treatment of both basic plasma physics and industrial plasma processing, quickly becoming the primary reference for students and professionals. The Second Edition has been carefully updated and revised to reflect recent developments in the field and to further clarify the presentation of basic principles. Along with in-depth coverage of the fundamentals of plasma physics and chemistry, the authors apply basic theory to plasma discharges, including calculations of plasma parameters and the scaling of plasma parameters with control parameters. New and expanded topics include: * Updated cross sections * Diffusion and diffusion solutions * Generalized Bohm criteria * Expanded treatment of dc sheaths * Langmuir probes in time-varying fields * Electronegative discharges * Pulsed power discharges * Dual frequency discharges * High-density rf sheaths and ion energy distributions * Hysteresis and instabilities * Helicon discharges * Hollow cathode discharges * Ionized physical vapor deposition * Differential substrate charging With new chapters on dusty plasmas and the kinetic theory of discharges, graduate students and researchers in the field of plasma processing should find this new edition more valuable than ever.
