Книга "Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами" представляет собой курс лекций о математических моделях фотолитографии и электронной литографии, используемых для создания структур с нанометровыми размерами. В книге описываются модели различных процессов фотолитографии, включая формирование изображения в фоторезисте, экспонирование и травление фоторезиста, а также показываются ограничения, с которыми сталкиваются процессы фотолитографии. Кроме того, приводится теория электронной эмиссии, которая используется для моделирования формирования электронного пучка, и описывается эффект близости, который ограничивает точность формирования изображения при электронной литографии, а также способы коррекции этого эффекта. Книга предназначена для студентов магистратуры по направлению "Электроника и наноэлектроника".
Книга "Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур" является курсом лекций, который подробно описывает математические модели, используемые в фотолитографии и электронной литографии для создания субмикронных и нанометровых структур. В ней рассматриваются различные аспекты фотолитографических процессов, такие как формирование изображения в фоторезисте, экспонирование и травление фоторезиста. Также приводятся ограничения, которые оказывают влияние на процесс фотолитографии. Книга содержит теорию электронной эмиссии, которая используется для моделирования формирования электронного пучка, а также описывает эффект близости, который влияет на точность формирования изображения при электронной литографии, и приводит методы коррекции этого эффекта. Она предназначена для студентов, изучающих направление 210100 "Электроника и наноэлектроника" в магистратуре.
Электронная Книга «Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами» написана автором С. Ю. Юрчук в 2013 году.
Минимальный возраст читателя: 0
Язык: Русский
Описание книги от С. Ю. Юрчук
Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, которые накладываются на процесс фотолитографии. Приведена теория электронной эмиссии, используемая для моделирования формирования электронного пучка. Описан эффект близости, который вносит ограничения в точность формирования изображения при электронной литографии. Показаны способы коррекции эффекта близости. Предназначен для студентов, обучающихся в магистратуре по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника».
